Certains clients ont posé des questions sur les cibles de pulvérisation de silicium.Désormais, des collègues du département technologique de RSM analyseront pour vous les cibles de pulvérisation de silicium.
La cible de pulvérisation de silicium est fabriquée par pulvérisation de métal à partir d'un lingot de silicium.La cible peut être fabriquée par divers procédés et procédés, notamment la galvanoplastie, la pulvérisation cathodique et le dépôt en phase vapeur.Des modes de réalisation préférés proposent en outre des processus de nettoyage et de gravure supplémentaires pour obtenir des conditions de surface souhaitées.La cible produite est hautement réfléchissante, avec une rugosité inférieure à 500 angströms et une vitesse de combustion relativement rapide.Le film préparé par la cible de silicium présente un faible nombre de particules.
La cible de pulvérisation de silicium est utilisée pour déposer des films minces sur des matériaux à base de silicium.Ils sont couramment utilisés dans les applications d'affichage, de semi-conducteurs, d'optique, de communication optique et de revêtement de verre.Ils conviennent également à la gravure de composants de haute technologie.Les cibles de pulvérisation de silicium de type N peuvent être utilisées à différentes fins.Il s’applique à de nombreux domaines, notamment l’électronique, les cellules solaires, les semi-conducteurs et les écrans.
La cible de pulvérisation de silicium est un accessoire de pulvérisation utilisé pour déposer des matériaux en surface.Habituellement, il est constitué d’atomes de silicium.Le processus de pulvérisation nécessite une quantité précise de matériau, ce qui peut constituer un défi de taille.L’utilisation d’un équipement de pulvérisation idéal est le seul moyen de fabriquer des composants à base de silicium.Il convient de noter que la cible de pulvérisation de silicium n’est pas utilisée dans le processus de pulvérisation.
Heure de publication : 24 octobre 2022