1. Méthode de pulvérisation magnétron :
La pulvérisation magnétron peut être divisée en pulvérisation DC, pulvérisation moyenne fréquence et pulvérisation RF.
A. L'alimentation électrique de pulvérisation CC est bon marché et la densité du film déposé est faible.Généralement, les batteries photothermiques et à couches minces domestiques sont utilisées avec une faible consommation d'énergie et la cible de pulvérisation est une cible métallique conductrice.
B. L'énergie de pulvérisation RF est élevée et la cible de pulvérisation peut être une cible non conductrice ou une cible conductrice.
C. La cible de pulvérisation à moyenne fréquence peut être une cible en céramique ou une cible métallique.
2. Classification et application des cibles de pulvérisation
Il existe de nombreux types de cibles de pulvérisation, et les méthodes de classification des cibles sont également différentes.Selon la forme, ils sont divisés en cible longue, cible carrée et cible ronde ;Selon la composition, il peut être divisé en cible métallique, cible en alliage et cible en composé céramique ;Selon différents domaines d'application, il peut être divisé en cibles en céramique liées aux semi-conducteurs, cibles en céramique pour supports d'enregistrement, cibles en céramique d'affichage, etc. Les cibles de pulvérisation sont principalement utilisées dans les industries électroniques et de l'information, telles que l'industrie du stockage d'informations.Dans cette industrie, les cibles de pulvérisation cathodique sont utilisées pour préparer des produits à couches minces pertinents (disque dur, tête magnétique, disque optique, etc.).Maintenant.Avec le développement continu de l’industrie de l’information, la demande sur le marché de cibles en céramique pour supports d’enregistrement augmente.La recherche et la production de cibles sur supports d’enregistrement font désormais l’objet d’une attention considérable.
Heure de publication : 11 mai 2022