Comme nous le savons tous, il existe de nombreuses spécifications concernant les cibles de pulvérisation, et leurs domaines d’application sont également très larges.Les types de cibles couramment utilisés dans différents domaines sont également différents.Aujourd'hui, apprenons la classification des domaines d'application cibles de la pulvérisation cathodique avec l'éditeur de RSM !
1、Définition de la cible de pulvérisation
La pulvérisation cathodique est l’une des principales technologies de préparation de matériaux en couches minces.Il utilise les ions produits par la source d'ions pour accélérer et se rassembler sous vide pour former un faisceau d'ions à grande vitesse, bombarder la surface solide et les ions échangent de l'énergie cinétique avec les atomes sur la surface solide, de sorte que les atomes sur le solide La surface est séparée du solide et déposée sur la surface du substrat.Le solide bombardé est la matière première pour préparer le film mince déposé par pulvérisation cathodique, appelé cible de pulvérisation.
2、Classification des domaines d'application cibles de la pulvérisation
1. Cible semi-conductrice
(1) Cibles communes : les cibles communes dans ce domaine incluent les métaux à point de fusion élevé tels que le tantale/cuivre/titane/aluminium/or/nickel.
(2) Utilisation : principalement utilisé comme matière première clé pour les circuits intégrés.
(3) Exigences de performances : exigences techniques élevées en matière de pureté, de taille, d'intégration, etc.
2. Cible pour écran plat
(1) Cibles communes : les cibles communes dans ce domaine incluent l'aluminium/cuivre/molybdène/nickel/niobium/silicium/chrome, etc.
(2) Utilisation : ce type de cible est principalement utilisé pour divers types de films de grande taille tels que les téléviseurs et les ordinateurs portables.
(3) Exigences de performance : exigences élevées en matière de pureté, de grande surface, d'uniformité, etc.
3. Matériau cible pour cellule solaire
(1) Cibles communes : aluminium/cuivre/molybdène/chrome/ITO/Ta et autres cibles pour les cellules solaires.
(2) Utilisation : principalement utilisé dans la « couche de fenêtre », la couche barrière, l’électrode et le film conducteur.
(3) Exigences de performances : exigences techniques élevées et large gamme d’applications.
4. Cible pour le stockage des informations
(1) Cibles communes : cibles communes de cobalt/nickel/ferroalliage/chrome/tellure/sélénium et autres matériaux pour le stockage d'informations.
(2) Utilisation : ce type de matériau cible est principalement utilisé pour la tête magnétique, la couche intermédiaire et la couche inférieure du lecteur optique et du disque optique.
(3) Exigences de performances : une densité de stockage élevée et une vitesse de transmission élevée sont requises.
5. Cible pour la modification de l'outil
(1) Cibles communes : cibles communes telles que l'alliage titane/zirconium/chrome-aluminium modifié par des outils.
(2) Utilisation : généralement utilisé pour le renforcement de surface.
(3) Exigences de performances : exigences de performances élevées et longue durée de vie.
6. Cibles pour appareils électroniques
(1) Cibles communes : cibles communes en alliage d'aluminium/siliciure pour les appareils électroniques
(2) Objectif : généralement utilisé pour les résistances et les condensateurs à couches minces.
(3) Exigences de performance : petite taille, stabilité, faible coefficient de température de résistance
Heure de publication : 27 juillet 2022